題目

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商標註冊保護主義之調和─以欠缺使用意思類型之商標惡意申請與註冊行為的管制與救濟為討論中心

口試委員

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國立臺北科技大學智慧財產權研究所 陳匡正教授

國立臺北科技大學智慧財產權研究所 蘇倚德副教授 

世新大學智財法中心主任           王思原副教授

指導教授

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國立臺北科技大學智慧財產權研究所 陳匡正教授

研究生

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陳昱彣

時間

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114年12月19日(星期五)14:00-16:00

地點

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臺北科技大學 先鋒國際研發大樓14樓 1402 PBL教室

摘要

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　　由於我國商標法中，尤其缺乏TM5針對商標惡意申請與註冊行為分類中，「欠缺使用意圖」類型的相關防範規範與制度，本文建議宜啟動相關修法研議。又從藍眼淚商標爭議案中，能得出我國對於該規範與制度並非毫無需求。故本文欲以法制作業實務與立法技術的角度，聚焦研究如何遏止「欠缺使用意思」此一類型的商標惡意申請與註冊，此類型較為特殊，係牽涉商標法核心議題─「商標使用」，並與敦促商標使用義務有關，以及牽涉使用保護主義及註冊保護主義調和的問題。

　　關於如何藉由商標法來遏止欠缺使用意圖類型的商標惡意申請與註冊行為，除考量「惡意欠缺使用意思不得註冊條款」應如何制定、解釋與執法之外(法律制定與解讀、執行面)，須同時考量與該條款相互銜接的相關商標管制或救濟制度應該如何設計(制度面)，以及如何建立使用意思聲明審查制度(相關配套條文與制度)，這些修正事項必須從商標法之整體體系角度切入，進行通盤研究與檢討。

　　本文建議我國應將類似於美國「真誠使用意圖要求」之精神，正式導入(調和)於我國採行註冊保護主義的商標法中。新增惡意欠缺使用意思不得註冊條款，且選擇將該條款銜接「註冊實質審查程序」，以及獲准註冊後的「異議制度」、「評定制度」。惡意欠缺使用意思不得註冊條款之運行制度係屬於一獨立制度，係與商標法第63條第1項第2款的廢止制度並行。並應同時建立使用意思聲明審查制度，尤其是在註冊實質審查程序中的，應制定運行該制度的相關法源依據，藉此完善我國敦促商標使用義務的制度。我國曾經在民國82年商標法第2條中有相關規範，但於民國92年刪除。故本文除了分析過去新增與刪除的修法理由與背景之外，並欲以TM5中的美國與中國為研究對象，研究其在商標法規範中，針對惡意欠缺商標使用意圖、使用目的之惡意申請與註冊行為，在「法律制定與解讀層面」、「法律執行層面」，以及「制度設計層面」等作法，並藉以上研究為基礎提供我國商標法修法之建議，期望能藉以緩解我國過去與未來修法時的各種憂慮。